概述

在日本，内诺和出愿是两种不同的专利申请方式。内诺是指在日本国内先提交一份专利申请，再在其他国家提交同一专利的申请。而出愿则是直接在其他国家提交专利申请，而无需先在日本进行申请。本文将详细介绍这两种专利申请方式的具体区别。

内诺的申请方式

内诺的申请方式可以分为两个阶段。第一阶段是在日本国内提交一份专利申请，这也被称为原始申请。在原始申请提交后的12个月内，申请人可以选择是否将该申请转化为PCT申请。如果选择转化为PCT申请，则需要在PCT申请提交后的30个月内决定是否进一步在各个国家/地区提交专利申请。如果是在PCT申请提交后的30个月内选择提交其他国家/地区的专利申请，则该PCT申请将被覆盖在这些专利申请之下。

出愿的申请方式

出愿是指直接在其他国家提交专利申请，而无需先在日本进行申请。这种申请方式通常适用于那些不打算将其专利保护在日本的申请人。出愿的好处是可以节省时间和成本，因为申请人无需先在日本提交申请，然后再等待其授权。然而，这种申请方式可能会导致一些问题，例如在日本国内出现了新的先行技术，可能导致出愿的专利申请被拒绝。

两种申请方式的区别

内诺和出愿的主要区别在于申请顺序和时间。内诺的申请方式需要先在日本国内提交申请，然后再在其他国家/地区进行专利申请。而出愿则是直接在其他国家/地区提交专利申请，而无需先在日本进行申请。此外，内诺申请需要遵循PCT申请的规定，而出愿无需遵循PCT申请的规定。

总结

内诺和出愿是两种在日本进行专利申请的不同方式。内诺的申请方式需要先在日本提交原始申请，然后再考虑是否转化为PCT申请。而出愿则是直接在其他国家提交专利申请，而无需先在日本进行申请。虽然这两种申请方式都适用于不同的情况，但申请人应仔细考虑其选择，并根据自己的情况和需求，选择最适合自己的申请方式。